紫外光刻機的應用在什麽地方呢
更新時(shí)間(jiān)：2022-11-03 點擊次數(shù)：1370
該光刻機可(kě)廣泛用于MEMS和(hé)光電(diàn)子，例如LED生(shēng)産。它經過**設計(jì)，方便處理(lǐ)各種非标準基片、例如混合、高(gāo)頻元件和(hé)易碎的III-V族材料，包括砷化镓和(hé)磷化铟。而且該設備可(kě)通(tōng)過選配升級套件，實現紫外納米壓印光刻。它具有(yǒu)以下亮點：高(gāo)分辨率掩模對準光刻，特征尺寸優于0.5微米、裝配SUSS的單視(shì)場(chǎng)顯微鏡或分視(shì)場(chǎng)顯微鏡，實現快速準确對準、針對厚膠工藝進行(xíng)優化的高(gāo)分辨光學系統、可(kě)選配通(tōng)用光學器(qì)件，在不同波長間(jiān)進行(xíng)快速切換等。
采用三柔性支點實現高(gāo)精度自動調平；真空(kōng)接觸自動曝光；樣片升降、調平、接觸、曝光、複位實現自動化控制(zhì)；采用積木錯位蠅眼透鏡實現高(gāo)均勻照明(míng)；可(kě)連續設定分離間(jiān)隙；采用雙目雙視(shì)場(chǎng)顯微鏡實現高(gāo)對準精度。整機具有(yǒu)性能可(kě)靠、操作(zuò)方便、自動化程度高(gāo)等特點。
光刻機通(tōng)過一系列的光源能量、形狀控制(zhì)手段，将光束透射過畫(huà)着線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，将線路圖成比例縮小(xiǎo)後映射到矽片上(shàng)，不同光刻機的成像比例不同，有(yǒu)5:1，也有(yǒu)4:1。然後使用化學方法顯影(yǐng)，得(de)到刻在矽片上(shàng)的電(diàn)路圖（即芯片）。
一般的光刻工藝要經曆矽片表面清洗烘幹、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影(yǐng)、硬烘、激光刻蝕等工序。經過一次光刻的芯片可(kě)以繼續塗膠、曝光。越複雜的芯片，線路圖的層數(shù)越多(duō)，也需要更精密的曝光控制(zhì)過程。
紫外光刻機工作(zuò)原理(lǐ)
在加工芯片的過程中，光刻機通(tōng)過一系列的光源能量、形狀控制(zhì)手段，将光束透射過畫(huà)着線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，将線路圖成比例縮小(xiǎo)後映射到矽片上(shàng)，然後使用化學方法顯影(yǐng)，得(de)到刻在矽片上(shàng)的電(diàn)路圖。
一般的光刻工藝要經曆矽片表面清洗烘幹、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影(yǐng)、硬烘、激光刻蝕等工序。經過一次光刻的芯片可(kě)以繼續塗膠、曝光。越複雜的芯片，線路圖的層數(shù)越多(duō)，也需要更精密的曝光控制(zhì)過程。
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