與濕法清洗相比，Harrick等離子清洗機的優勢表現在哪裏？

　　等離子體(tǐ)是物質的一種存在狀态。通(tōng)常，物質以固體(tǐ)、液體(tǐ)和(hé)氣體(tǐ)三種狀态存在，但(dàn)在某些(xiē)特殊情況下，它可(kě)以以第四種狀态存在，例如太陽表面的物質和(hé)地球大(dà)氣電(diàn)離層中的物質。這種物質的狀态稱為(wèi)等離子體(tǐ)态，也稱為(wèi)物質的第四态。

　　等離子體(tǐ)中存在以下物質：高(gāo)速運動的電(diàn)子；處于活化狀态的中性原子、分子和(hé)原子團（自由基）；電(diàn)離的原子和(hé)分子；分子解離反應過程中産生(shēng)的紫外線；未反應的分子、原子等，但(dàn)物質整體(tǐ)保持電(diàn)中性。
 

　　與濕式清洗相比，Harrick等離子清洗機的優點如下：

　　1、等離子清洗後，清洗後的物體(tǐ)非常幹燥，無需幹燥即可(kě)送入下道(dào)工序。

　　2、不使用三氯乙烯ODS有(yǒu)害溶劑，清洗後不會(huì)産生(shēng)有(yǒu)害污染物。是一種有(yǒu)利于環境保護的綠色清潔方式。

　　3、可(kě)以深入到物體(tǐ)的微孔和(hé)凹陷處，完成清潔任務，無需考慮被清潔物體(tǐ)形狀的影(yǐng)響。

　　4、Harrick等離子清洗機整個(gè)清洗過程可(kě)在幾分鍾內(nèi)完成，因此具有(yǒu)效率高(gāo)的特點。

　　5、等離子清洗的技(jì)術(shù)特點是可(kě)以處理(lǐ)不同的基材而不管處理(lǐ)對象。無論是金屬、半導體(tǐ)、氧化物還(hái)是高(gāo)分子材料（如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環氧樹(shù)脂等聚合物）都可(kě)以很(hěn)好地進行(xíng)等離子體(tǐ)處理(lǐ)。因此，它特别适用于耐熱和(hé)耐溶劑的基材。此外，可(kě)以選擇性地清潔材料的整體(tǐ)、局部或複雜結構。

　　6、在清洗去污的同時(shí)，還(hái)可(kě)以改變材料本身的表面性質。如提高(gāo)表面的潤濕性，提高(gāo)薄膜的附着力等。

　　7、自動化程度高(gāo)；Harrick等離子清洗機采用高(gāo)精度控制(zhì)裝置，時(shí)間(jiān)控制(zhì)精度非常高(gāo)；正确的等離子清洗不會(huì)在表面産生(shēng)損傷層，保證表面質量；由于是在真空(kōng)中進行(xíng)，不污染環境，保證清潔後的表面不會(huì)受到二次污染。