Harrick等離子清洗機都有(yǒu)哪幾種清洗方式？

　　等離子體(tǐ)是指弱電(diàn)解質蒸氣，是電(diàn)子器(qì)件、正離子、分子、分子結構或氧自由基的結合體(tǐ)。清洗時(shí)，高(gāo)能電(diàn)子器(qì)件的沖擊反映蒸汽的分子結構，使其離解或削弱電(diàn)解質，應用引起的各種粒子負電(diàn)子在表面被清洗或與被清洗表面發生(shēng)化學反應，從而在商業上(shàng)消除各種空(kōng)氣污染物。還(hái)可(kě)以改善材料本身的表面功能，那(nà)麽Harrick等離子清洗機都有(yǒu)哪幾種清洗方式？
 

　　

　　1、化學反應

　　

　　血漿中堿性酶的氧自由基與材料表面的有(yǒu)機化合物反應，也叫PE。用co2清洗，使非揮發性有(yǒu)機化合物變得(de)揮發性，産生(shēng)二氧化碳、一氧化碳和(hé)水(shuǐ)。有(yǒu)機清洗的好處是清洗率高(gāo)，選擇性好，能有(yǒu)效清洗有(yǒu)機化學空(kōng)氣污染物。主要缺點是轉化的金屬氧化物可(kě)能會(huì)在材料表面再次産生(shēng)。在引線鍵合工藝中，金屬氧化物是最不期望出現的，通(tōng)過适當選擇工藝的主要參數(shù)可(kě)以避免這種缺陷。

　　

　　2、Harrick等離子清洗機物理(lǐ)反應

　　

　　也叫磁控濺射刻蝕(SPE)是利用等離子體(tǐ)中的正離子進行(xíng)純物理(lǐ)撞擊，去除附着在材料表面的分子。氩氣用于清洗，正氩離子以足夠的動能對電(diàn)子器(qì)件表面進行(xíng)負沖擊，沖擊力足以去除所有(yǒu)灰塵。聚合物中的生(shēng)物大(dà)分子被離子鍵分離成小(xiǎo)分子水(shuǐ)，由機械泵氣化排出。根據氩等離子體(tǐ)清洗，可(kě)以改變材料表面的外部經濟外觀，使材料在分子結構水(shuǐ)平上(shàng)越來(lái)越“粗糙”，這可(kě)以大(dà)大(dà)提高(gāo)表面特異性并推進表面的粘附。氩氣低(dī)溫等離子體(tǐ)的好處是不容易将所有(yǒu)金屬氧化物留在飾面材料表面。缺陷很(hěn)可(kě)能導緻過度侵蝕或空(kōng)氣污染物顆粒積聚在其他不可(kě)預料的區(qū)域，但(dàn)是這種缺陷可(kě)以通(tōng)過微調主要工藝參數(shù)來(lái)控制(zhì)。

　　

　　3、Harrick等離子清洗機物理(lǐ)和(hé)化學反應同時(shí)存在

　　

　　物理(lǐ)反應與化學反應均起關鍵功效的清洗。例如，當使用Ar和(hé)O2的混合物進行(xíng)在線等離子體(tǐ)清洗的整個(gè)過程時(shí)，化學反應速率必須比單獨使用Ar或O2更快。正離子加速後，氩氣産生(shēng)的機械能可(kě)以反映氧離子。因此，環境污染不太樂觀的材料表面可(kě)以用物理(lǐ)方法消除。