看看URE-2000/35型紫外光刻機都有(yǒu)哪些(xiē)突破傳統的優勢？

　　随着電(diàn)子工業的快速發展，對作(zuò)為(wèi)電(diàn)子元器(qì)件基礎的印制(zhì)闆的需求和(hé)對加工精度的要求越來(lái)越高(gāo)。URE-2000/35型紫外光刻機是印制(zhì)闆制(zhì)造過程中的重要設備。傳統的光刻機在生(shēng)産過程中需要人(rén)工吹膜，需要經常更換薄膜。由于散熱系統過于臃腫，其生(shēng)産成本高(gāo)、效率低(dī)，已不能滿足PCB生(shēng)産的需要。在實驗的基礎上(shàng)，設計(jì)了一種雙層玻璃幹燥架光刻機，對其主要部件進行(xíng)了改進，包括幹燥架系統、光路系統、冷卻系統、電(diàn)氣和(hé)控制(zhì)系統的整體(tǐ)設計(jì)。

　　在計(jì)算(suàn)機的控制(zhì)下，URE-2000/35型紫外光刻機利用聚焦電(diàn)子束對有(yǒu)機聚合物（通(tōng)常稱為(wèi)電(diàn)子抗蝕劑或光刻膠）進行(xíng)曝光。光刻膠改變其物理(lǐ)和(hé)化學性質，在一定的溶劑中形成良好或不良的溶解區(qū)域，從而在抗蝕劑上(shàng)形成精細的圖案。
 

　　紫外投影(yǐng)光刻是将特定形狀的光斑投射到器(qì)件表面塗覆的光刻膠上(shàng)，使光刻膠在照射區(qū)域發生(shēng)化學變化，曝光顯影(yǐng)後可(kě)形成微米級精密圖案；進一步的蝕刻或蒸發可(kě)以在樣品表面形成所需的結構。UV投影(yǐng)光刻作(zuò)為(wèi)材料、器(qì)件、微結構和(hé)微器(qì)件的常用制(zhì)備技(jì)術(shù)，廣泛應用于維納結構制(zhì)備、半導體(tǐ)器(qì)件電(diàn)極制(zhì)備、太赫茲/毫米波器(qì)件制(zhì)備、光掩模制(zhì)備、PCB制(zhì)造等應用領域。常規UV投影(yǐng)光刻機需要先制(zhì)作(zuò)掩膜版。耗材成本高(gāo)、生(shēng)産周期長，難以滿足材料器(qì)件實驗室對靈活性和(hé)實驗進度的要求。近年來(lái)發展起來(lái)的無掩模光刻技(jì)術(shù)突破了這一技(jì)術(shù)局限，實現了任意形狀編程、自動高(gāo)精度大(dà)規模拼接無掩模光刻，随時(shí)将您的設計(jì)轉化為(wèi)實際成品，大(dà)大(dà)縮短(duǎn)了開(kāi)發測試周期，強力輔助維納微納器(qì)件的制(zhì)備。

　　URE-2000/35型紫外光刻機基于多(duō)年微納結構制(zhì)備經驗，自主研發高(gāo)均勻度UV光源、高(gāo)保真導光路、高(gāo)精度、大(dà)行(xíng)程、大(dà)承重納米平台等核心技(jì)術(shù)，結合高(gāo)度穩定的機械結構、自動化和(hé)軟件設計(jì)，推出全自動高(gāo)精度無掩模光刻機。