URE-2000/35型紫外光刻機使用須知

　　光刻是使用曝光将設計(jì)的掩模圖案轉移到基闆的過程，URE-2000/35型紫外光刻機是專為(wèi)實驗室研發和(hé)小(xiǎo)批量生(shēng)産而設計(jì)的高(gāo)分辨率光刻系統。光刻機提供良好的基闆适應性，可(kě)夾持的标準尺寸基闆最大(dà)直徑為(wèi)150mm。該設備提供多(duō)種曝光方式，包括真空(kōng)、軟接觸、硬接觸等，可(kě)實現鍵合對準、納米壓印、微接觸密封等多(duō)種功能。

　　

　　1、穩定的納米分辨率；

　　

　　2、大(dà)面積全場(chǎng)曝光，無需拼接；

　　

　　3、自由度不受限制(zhì)，不影(yǐng)響厚膠和(hé)表面翹曲；

　　

　　4、雙工作(zuò)模式；

　　

　　5、全息光刻模式：周期性納米結構；

　　

　　6、掩模對準光刻模式：任何微米結構；

　　

　　7、簡化的曝光工藝可(kě)實現一鍵式曝光；

　　

　　8、靈活的定制(zhì)解決方案。

　　

　　URE-2000/35型紫外光刻機同類産品的優異輸出強度，出色的光束均勻性：3%的可(kě)用孔徑，更長的弧光燈使用壽命：高(gāo)達30000次曝光，即時(shí)啓動，無需超淨室，內(nèi)置淨化系統可(kě)以使系統在大(dà)氣環境中工作(zuò)，無需主動冷卻和(hé)外部冷卻，綠色技(jì)術(shù)：高(gāo)光能轉換率（EVU僅為(wèi)0.02%），節能省電(diàn)；傳統UV加工會(huì)存在以上(shàng)問題，光刻操作(zuò)幾分鍾即可(kě)完成，維護簡單。

　　

　　URE-2000/35型紫外光刻機廣泛應用于半導體(tǐ)光刻工藝、光波導、光栅、MEMS、二極管芯片、發光二極管（LED）芯片制(zhì)造、顯示面闆LCD、光電(diàn)器(qì)件、納米壓印和(hé)電(diàn)子封裝。它的使用須知如下：

　　

　　1、不要頻繁開(kāi)關汞燈；

　　

　　2、水(shuǐ)銀燈剛開(kāi)機需要預熱一段時(shí)間(jiān)；

　　

　　3、檢查氮氣。CDA壓力必須為(wèi)0.6MPa，N2壓力必須為(wèi)0.4MPa。