紫外光刻機可(kě)廣泛用于MEMS和(hé)光電(diàn)子，例如LED生(shēng)産。它方便處理(lǐ)各種非标準基片、例如混合、高(gāo)頻元件和(hé)易碎的III-V族材料，包括砷化镓和(hé)磷化铟。而且該設備可(kě)通(tōng)過選配升級套件，實現紫外納米壓印光刻。它具有(yǒu)以下亮點：高(gāo)分辨率掩模對準光刻，特征尺...

femto可(kě)調電(diàn)流放大(dà)器(qì)是要求在帶寬值達200MHz從小(xiǎo)電(diàn)流轉換成可(kě)用的電(diàn)壓應用程序的佳選擇。它非常适合用于直流和(hé)交流測量值達200MHz，時(shí)間(jiān)分辨測量到該ns區(qū)域和(hé)作(zuò)為(wèi)前置放大(dà)器(qì)可(kě)快速光電(diàn)探測器(qì)信号。提供了包括可(kě)變增益值從102到108V...

Harrick等離子清洗機在各個(gè)行(xíng)業的清洗工作(zuò)中起着非常重要的作(zuò)用。等離子清洗機确實很(hěn)強大(dà)，安全可(kě)靠，可(kě)用于各種環境領域和(hé)場(chǎng)合，實現高(gāo)效安全使用。它的作(zuò)用主要表現在這些(xiē)方面。1、表面清潔Harrick等離子清洗機在運行(xíng)過程中可(kě)以對産品表面進...

紫外光刻機是制(zhì)造集成電(diàn)路中重要的設備，特别是現在市面上(shàng)大(dà)部分的芯片都是屬于電(diàn)子芯片，當電(diàn)子芯片的工藝小(xiǎo)于一定的尺寸的時(shí)候，就必須依靠光刻機在制(zhì)作(zuò)芯片，也就是說如果沒有(yǒu)光刻機就沒有(yǒu)辦法制(zhì)造出頂級的芯片，比如市面上(shàng)7nm芯片、5nm芯片等都不可(kě)...

紫外光刻機新一代紫外光源：172nm，具有(yǒu)同類産品良好的輸出強度，3%的可(kě)用孔徑，弧光燈使用壽命更長。暴露高(gāo)達30000次，瞬間(jiān)啓動，無需超淨室，內(nèi)置淨化系統可(kě)使系統在大(dà)氣環境中工作(zuò)，無需主動冷卻和(hé)外部冷卻，無有(yǒu)毒氣體(tǐ)和(hé)汞等物質。高(gāo)光能轉換...

光刻是使用曝光将設計(jì)的掩模圖案轉移到基闆的過程，URE-2000/35型紫外光刻機是專為(wèi)實驗室研發和(hé)小(xiǎo)批量生(shēng)産而設計(jì)的高(gāo)分辨率光刻系統。光刻機提供良好的基闆适應性，可(kě)夾持的标準尺寸基闆最大(dà)直徑為(wèi)150mm。該設備提供多(duō)種曝光方式，包括真空(kōng)、...